Enrique Funke, director técnico de Intel Ibérica

Aunque el silicio es hoy la base indiscutible de cualquier procesador, algunos se inclinan a pensar que este material adolece de algunas carencias que otros superan. Sin embargo, Intel por ejemplo habla de silicio aún para el año 2007.

El directivo comenta a COMPUTERWORLD también otras técnicas dentro de la fabricación.+

Los avances en fabricación de procesadores van aprisa, pero mejorando técnicas que ya existen hace tiempo. ¿Algo nuevo en el horizonte?

Digamos que, por ejemplo, el silicio es un material del que todavía se puede sacar mucho partido, ya que los avances se producen atendiendo al nivel de producción y a la calidad de los producido. En Intel, sin ir más lejos, se habla de silicio para el año 2007, aunque para entonces se tratará de otros sistemas de fabricación (0,18 micras, con una 50 millones de transistores por procesador).

50 millones de transistores se traducirán en mayores velocidades, ¿no es así?

Desde luego, nosotros calculamos aproximadamente 500 MHz. Esa es una buena progresión.

Sin embargo, ya existen hoy procesadores como los de Digital que arrojan velocidades superiores a los 300 MHz. ¿Ellos van por delante?

Mire usted, un Alpha de Digital a 300 MHz tiene un reloj interno de 150 MHz en realidad, y ello es demostrable, mientras que un Pentium a 120 MHz dobla internamente esta frecuencia colocándola en 240 MHz. Además, hay que pensar que Intel fabrica para el mercado de volumen, y no puede permitirse como otros realizar procesadores con métodos artesanales. En definitiva, es necesaria hacer cómoda la vida del fabricante de equipos si tu clientela es superior al medio millar.

Volviendo al aspecto de la fabricación mecánica, Intel utiliza litografía óptica, como la mayoría de los demás, para el grabado de las máscaras en el chip; sin embargo, IBM lo hace por rayos X ¿es mejor este método?

Desde luego, no es peor, esto hay que reconocerlo. Además, IBM se ha unido recientemente a AT&T y Motorola para investigar en este campo, en el que lleva desde hace más de diez años. Pero se trata todavía de un método caro.

También se pueden utilizar metódos basados en haces de iones o electrones ¿cuáles son sus características?

Desconozco qué fabricantes en concreto lo usan en la actualidad, pero sí puedo decirle que, con estos modelos, el nivel de producción es de cinco o diez obleas por minuto, en tanto que la fotolitografía o el método de rayos X elevan ese nivel a cientos de obleas.