IBM muestra un modelado 3D de 15 nanómetros

El nuevo patrón de fabricación destaca por ofrecer procesos de fabricación más minúsculos, además de abaratarlos frente a los empleados actualmente.

Un equipo de informáticos e ingenieros de IBM con sede en Zurich ha desarrollado una nueva técnica de litografía de sonda de barrido, la cual permite liberar el material de delgadas capas de cristal orgánico con una resolución de tan sólo 15 nanómetros. Hasta el momento, no había sido posible modelar este tipo de materiales por debajo de los 30 nanómetros, un proceso que se utiliza en la fabricación de los chips de silicio de ordenador, así como la de otros componentes electrónicos.

Los investigadores presentan más detalles de la técnica empleada en la revista Science de este mes, donde detallan cómo las interacciones entre las moléculas orgánicas permiten crear, por la acción del calor, patrones y estructuras en 3D del tamaño indicado.

Un par de demostraciones permitieron recrear las posibilidades de la nueva técnica, la cual abre el camino hacia el desarrollo de nano objetos en la fabricación de chips, así como en otros campos de la electrónica, medicina y optoelectrónica.

Por un lado, se creó en vidrio molecular una réplica a escala de 1: 5 billones de la montaña Matterhorn, perteneciente a los Alpes Suizos, cuya altura ronda los 4.478 metros de altura. La otra demostración constaba de la recreación de un mapamundi en relieve que mide 22 x 11 micrómetros, dónde la altura real de mil metros corresponde a 8 nanómetros. El mapamundi fue recreado en apenas 2 minutos y 50 segundos, según destacó un portavoz de IBM.

Estos procesos de modelado permiten obtener estructuras tridimensionales complejas, demostrando que existen nuevos patrones que podrán utilizarse en las técnicas actuales de fabricación. Además, desde IBM destacan que la nueva tecnología es más simple y menos costosa que las actuales, con el fin de poder desarrollar nanoestructuras de productos semiconductores y otra serie de componentes.

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